【お問合せ】
スラリー解析における「Uniformity」の「緩和過程の均一性」とは何ですか？
【回答】
同じ材料由来の緩和過程は、接触状態の影響を受けて分布を持つと考えます。
粒子の接触状態が均一な場合、導電パス中の各導電材料間で生じる緩和過程は全て同じパラメーターをとります。
このときに得られるナイキストプロットは真円の半円となります。同じ材料由来の緩和過程の分布は、CPEで表現します。粒子の接触状態が均一な場合、CPEのpは1になります。
一方、粒子の接触状態が不均一な場合は、導電パス中の導電材料間で生じる緩和過程の周波数特性の影響を受けた分布になります。このときに得られるナイキストプロットはつぶれた円弧となり、これをCPEで表すとpは1以下となります。
【修正】2025年11月
※お客様から計測に関するお問い合わせのあった内容で、他の皆様にも参考になる情報を公開しています。
※詳細につきましては取扱説明書、製品カタログ等を参照していただきますようお願い申し上げます。